TEAOH体系显影液
产品名称 TEAOH体系显影液 |
CAS号 |
分子式 |
分子量 |
产品外观 无色透明液体 |
包装规格 220L桶、吨桶 |
核心用途 LCD/OLED显示面板光刻工艺显影、半导体正性光刻胶显影、MEMS器件硅蚀刻、电子元件碱性清洗 |
产品特性 电子级超高纯度，显影速率稳定，选择性高，表面张力低，图形保真度好 |
产品名称 剥离液 |
CAS号 |
分子式 |
分子量 |
产品外观 无色至淡黄色透明液体 |
包装规格 220L桶、吨桶 |
核心用途 半导体/显示面板制造中光刻胶剥离、干法刻蚀后聚合物残留清洗、金属配线刻蚀后残留物去除、先进封装去胶 |
产品特性 电子级超高纯度，剥离效率高，对金属、介电材料腐蚀性低，无有害残留 |
产品名称 晶圆清洗剂 |
CAS号 |
分子式 |
分子量 |
产品外观 无色透明液体 |
包装规格 220L桶、吨桶 |
核心用途 半导体晶圆表面颗粒/金属离子/有机残留去除、芯片制造各工艺环节清洗、MEMS器件清洗、光伏晶圆清洗 |
产品特性 电子级超高纯度，低表面张力，润湿铺展性好，对基底材料兼容性强 |
产品名称 羟胺系电子级清洗剂 |
CAS号 |
分子式 |
分子量 |
产品外观 无色至淡黄色透明液体 |
包装规格 220L桶、吨桶 |
核心用途 半导体芯片刻蚀后清洗、晶圆表面污染物去除、光刻胶残留清洗、先进封装工艺清洗 |
产品特性 电子级超高纯度，对Al、Cu等金属腐蚀性低，清洗效率高，环保无有害残留 |